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高精度真空室冷热设备 实验室高低温一体机

简要描述:【无锡冠亚】高精度真空室冷热设备 实验室高低温一体机应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

  • 产品型号:SUNDI-535W
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-12-19
  • 访  问  量:56
详情介绍
品牌冠亚恒温价格区间10万-20万
产地类别国产应用领域化工,生物产业,石油,制药,综合

高精度真空室冷热设备 实验室高低温一体机


无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制







型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


高精度真空室冷热设备 实验室高低温一体机

高精度真空室冷热设备 实验室高低温一体机

 

  TCU反应釜温度控制系统在小型生产过程中实现对反应釜内部温度的实时监测和准确控制,通过制冷加热温度的调节从而实现对反应釜内部温度的准确控制。

  一、TCU反应釜温度控制系统在小型生产中的优势

  ‌1、高精度控制‌:TCU反应釜温度控制系统采用先进的PID控制算法和高精度传感器,能够实现对温度的准确控制,误差范围通常在±0.1℃以内。这对于小型生产来说微小的温度波动都可能对产品质量产生显著影响。

  ‌2、快速响应‌:该系统具备快速升降温能力,能够在短时间内将反应釜内的温度调整至设定值。这有助于缩短生产周期,提高生产效率。

  ‌3、稳定可靠‌:TCU反应釜温度控制系统采用高质量的硬件设备和先进的控制算法,具有较高的稳定性和可靠性。即使在恶劣的工作环境下,也能保持长时间稳定运行。

  二、TCU反应釜温度控制系统在小型生产中的应用

  在小型生产过程中,TCU反应釜温度控制系统广泛应用于化工、制药、材料合成等领域。例如,在制药行业中,该系统可以确保药物在适合温度条件下进行合成、结晶和干燥等工艺过程,从而提高药品的纯度和稳定性。

  在化工行业中,该系统则用于优化化学反应过程,提高生产效率和产品质量。此外,在材料合成领域,TCU反应釜温度控制系统也发挥着作用,能够确保材料在合适的温度下进行合成和改性。





高精度真空室冷热设备 实验室高低温一体机


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