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油冷却控温装置 反应釜温度加热制冷控制机

简要描述:【无锡冠亚】油冷却控温装置 反应釜温度加热制冷控制机,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

  • 产品型号:SUNDI-635W
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-06-20
  • 访  问  量:399
详情介绍
品牌冠亚制冷价格区间20万-50万
产地类别国产应用领域化工,生物产业,石油,制药,综合

油冷却控温装置 反应釜温度加热制冷控制机


无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制




型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

 

  在半导体测试环节中,温度控制系统发挥着作用。正确的温度控制不仅影响着测试的准确性,还直接关系到半导体产品的质量和性能。因此,在选购半导体测试环节的温度控制系统时,需要仔细考虑多个因素,以确保选购到合适的系统。

  1、明确测试需求。

  不同的半导体产品对温度控制的要求可能不同,因此,在选购温度控制系统之前,需要充分了解所需测试的半导体产品的特性和测试要求。例如,一些产品可能需要在高温或低温环境下进行测试,而另一些产品则可能需要模拟快速温度变化的过程。只有明确了测试需求,才能选择到合适的温度控制系统。

  2、考虑精度和稳定性。

  对于半导体产品制造商来说,测试系统的精度和稳定性比较重要。精度高的温度控制系统能够更准确地模拟测试环境,从而提高测试的准确性。而稳定性好的系统则能够保持长时间的稳定运行,减少测试过程中的误差。

  3、操作简便性也是需要考虑的因素之一。

  一个易于操作的半导体测试环节温度控制系统可以降低员工的操作难度,提高测试效率,并减少人为因素导致的测试误差。因此,在选购温度控制系统时,可以关注其操作界面是否友好、操作步骤是否简单明了等方面。

  4、供应商的选择也是关键。

  在选购半导体测试环节温度控制系统时,应选择有良好信誉和经验的供应商。这些供应商通常能够提供质量可靠、性能稳定的温度控制系统,并提供及时、专业的售后服务。此外,还可以参考其他用户的评价和案例,以了解供应商的实力和口碑。

综上所述,选购半导体测试环节的温度控制系统时,需要综合考虑不同因素,通过认真比较和选择,可以选购到适合自己需求的温度控制系统,为半导体测试环节提供可靠的温度控制支持。



  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

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