销售咨询热线:
13912479193
产品中心
首页 > 产品中心 > 元器件高低温测试机 > Chiller > 介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序

介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序

简要描述:【无锡冠亚】半导体控温解决方案主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序

  • 产品型号:LTS-202
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-01-11
  • 访  问  量:595
详情介绍
品牌冠亚制冷冷却方式水冷式
价格区间10万-50万产地类别国产
仪器种类一体式应用领域化工,生物产业,电子,制药,汽车



无锡冠亚恒温制冷技术有限公司的半导体控温解决方案

主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,

⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。




【 冠亚制冷 】半导体行业主营控温产品:

半导体专温控设备

射流式⾼低温冲击测试机

半导体专用温控设备chiller

Chiller气体降温控温系统

Chiller直冷型

循环风控温装置

半导体⾼低温测试设备

电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源

射流式高低温冲击测试机

快速温变控温卡盘

数据中心液冷解决方案


型号FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
温度范围5℃~40℃
控温精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
内循环液容积4L5L6L8L10L12L20L
膨胀罐容积10L10L15L15L20L25L35L
制冷剂R410A
载冷剂硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI温度需要控制10℃以上)
进出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷却水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷却水流量at20℃1.5m³/h2m³/h2.5m³/h4m³/h4.5m³/h5.6m³/h9m³/h
电源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
温度扩展通过增加电加热器,扩展-25℃~80℃





介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序

介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序


  随着科技的不断发展,半导体行业对设备冷却的需求日益增长,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller在半导体制造过程中发挥着作用。本文将对浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller的应用进行详细介绍。

  1、半导体制造:在半导体制造过程中,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller被广泛应用于冷却芯片、晶体管等高精度、高功率器件。

  2、激光器冷却:激光器在运行过程中会产生大量的热能,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller能够为激光器提供稳定的冷却环境,保证其性能稳定。

  3、电力电子设备冷却:在电力电子设备中,如变频器、电源等,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller能够有效地冷却关键器件,提高设备可靠性。

  4、其他领域:除上述领域外,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller还广泛应用于设备、光学仪器等领域。

浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller能够实现温度的准确控制,为设备提供稳定的冷却环境。浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller结构紧凑,体积小,适用于空间有限的场合。浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller操作简单,维护方便,降低了使用成本。


638245968776937702775.jpg




留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
Baidu
map