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| 品牌 | LNEYA/无锡冠亚 | 价格区间 | 10万-20万 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 化工,生物产业,石油,制药,综合 |
无锡冠亚冷热一体机典型应用于：
高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、
双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制；
小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、
组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制
反应釜配套制冷加热控温系统应用：
反应釜配套制冷加热控温系统⼴泛应用于⽯油、化⼯、橡胶、染料、医药、⻝品等⽣产型用户和各种科研实验项⽬的研究用来完成⼯艺过程的容器。无锡冠亚制冷加热控温系统控温时温度稳定、升降温速率快、可连续稳定运行、实时记录反应过程温度。
微通道反应器配套制冷加热控温系统应用：
微通道反应器配套制冷加热控温系统可执行不同类型的反应，可用于微反应丁艺开发及精细化学品合成。无锡冠亚制冷加热控温系统宽温度范围，⾼精度智能温控，单流体控温，无需更导热介质稳定⽣产。
新能源汽车制冷加热测试系统应用：
新能源汽⻋行业，制冷加热控温系统主要应用在测试、检测台架和材料测试等环节。无锡冠亚制冷加热控温系统可同时对多个样品进行温度控制，控制系统可记录与导出测试过程中的温度数据，可满⾜⼤部分元件在特定的温度变化条件下测试。
半导体行业制冷加热测试系统应用：
制冷加热控温系统应用于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。芯片、模块、集成电路板、电子元器件等提供准确且快速的环境温度。无锡冠亚制冷加热控温系统是对产品电性能测试、失效分析、可靠性评估的仪器设备。
型号 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介质温度范围 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系统 | 前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器 | ||||||||||||
温控模式选择 | 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择 | ||||||||||||
温差控制 | 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定 | ||||||||||||
程序编辑 | 可编制5条程序，每条程序可编制40段步骤 | ||||||||||||
通信协议 | MODBUS RTU 协议 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入温度反馈 | PT100或4～20mA或通信给定（默认PT100) | ||||||||||||
温度反馈 | 设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度 | ||||||||||||
导热介质温控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反应物料温控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加热功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量压力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
压缩机 | 海立 | 艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机 | |||||||||||
膨胀阀 | 丹佛斯/艾默生热力膨胀阀 | ||||||||||||
蒸发器 | 丹佛斯/高力板式换热器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录 | ||||||||||||
安全防护 | 具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 | ||||||||||||
密闭循环系统 | 整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。 | ||||||||||||
制冷剂 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 温度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (风）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(风) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正压防爆(水）cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常规重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
电源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
选配风冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
萃取用高低温一体机 原料药冷热控温系统
萃取用高低温一体机 原料药冷热控温系统
在化学工业中，结晶是一种广泛使用的分离和纯化技术。然而，结晶过程中温度的控制对于产品的质量和产量具有影响。为了实现准确的温度控制，制冷加热控温系统被广泛应用于结晶过程。本文将探讨结晶过程中制冷加热控温系统的应用及其重要性。
一、结晶过程的温度控制
结晶是一种基于物质溶解度随温度变化的物理分离过程。在结晶过程中，目标物质从溶液中析出，形成固体晶体。这个过程通常需要在特定的温度范围内进行，以实现溶解度和晶体质量。因此，温度控制对于结晶过程重要。
二、制冷加热控温系统在结晶过程中的应用
结晶过程中制冷加热控温系统可以将反应釜或结晶器的温度准确地控制在预设范围内，确保结晶过程的稳定进行。通过结晶过程中制冷加热控温系统，可以获得更高质量的晶体产品，减少杂质和缺陷。在准确的温度控制下，结晶过程可以更加稳定和有效地进行，从而提高生产效率。
