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密闭式反应釜高低温一体机-半导体液冷设备

简要描述:【无锡冠亚】密闭式反应釜高低温一体机-半导体液冷设备,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

  • 产品型号:SUNDI-125
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-01-10
  • 访  问  量:548
详情介绍
品牌LNEYA/无锡冠亚价格区间10万-20万
产地类别国产应用领域化工,生物产业,石油,制药,综合

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无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制



型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/




密闭式反应釜高低温一体机-半导体液冷设备

密闭式反应釜高低温一体机-半导体液冷设备


  密闭式冷热循环系统是应用在制药化工中进行制冷加热控温的设备,那么,如何选择适合的密闭式冷热循环系统呢?一起跟冠亚制冷小编往下看。

  1、密闭式冷热循环系统的温度控制精度

  密闭式冷热循环系统配套制药反应釜需要在特定的温度条件下进行材料合成,因此温度控制精度是一个重要的因素。选购制药反应釜密闭式冷热循环系统时,企业应关注其温度控制的准确度,并确保它能够满足工艺要求。

  2、密闭式冷热循环系统的运行状态

  密闭式冷热循环系统的效率对于反应的进行和效果有着直接的影响,企业应选择具有运行稳定的设备,以确保反应能够快速达到温度要求并保持稳定。

  3、密闭式冷热循环系统的性能

  密闭式冷热循环系统过程通常需要长时间运行,企业应该选择性能较高的制药反应釜密闭式冷热循环系统,以减少设备故障和维修频率,提高生产效率。

  4、密闭式冷热循环系统的稳定性

  密闭式冷热循环系统涉及到化学反应,选购制药反应釜密闭式冷热循环系统时,企业应确保其能够提供保障措施,如温度超过设定范围时的自动停机保护功能。

  5、密闭式冷热循环系统的控制系统

  密闭式冷热循环系统的控制系统对于设备的操作和调控起着作用。企业应选择易于操作、功能齐全的控制系统,并确保其能够提供实时监控和数据记录功能,以便进行监测和分析。

  用户在购买制药反应釜密闭式冷热循环系统时,企业应综合考虑以上因素,并根据自身的生产需求进行合理选择。



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