半导体温控装置Chiller,反应釜控温系统

适合化工、制药、生化等低温反应设备

全密闭管道式设计，高效板式热交换器， 应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制，尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。
应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制，尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制

半导体温控装置Chiller,反应釜控温系统厂家

半导体温控装置Chiller,反应釜控温系统厂家

制冷加热装置也称之为：制冷加热动态控温系统、高低温一体机、制冷加热循环装置等，不同企业给予的名称不同，是专门给反应釜做升降温用，整个循环系统的导热介质是全密闭循环，循环系统带有液体膨胀容器，膨胀容器和液体循环是独立系统，膨胀容器并不参与液体循环，只是机械的连接。就算高温运行的情况下，膨胀容器中的导热介质都不会高于50度。

无锡冠亚拥有数位在超低温、高低温开发方面具有丰富经验的高素质专业设计人员的研发队伍。特别是反应釜控温为单一介质控制 -90度～+250 度连续控温。产品温度范围涉及－152度到350度，还可以根据客户的需求进行非标加工定做。

科学技术的发展也不断加速了化工制药行业的研发工作，从而促进了实验仪器设备的不断发展，我国现在处于仪器设备高度发展时期，制冷加热装置也迎来了广阔的前景，进入了快速发展时期。

据无锡冠亚技术人员介绍，制冷加热装置采用的导热介质在一个密闭的系统中，带有导热介质的膨胀容器不参与循环过程，无论是高温低温，膨胀容器的温度始终保持在常温60℃，延长了导热介质的使用寿命。由于使用的是同一介质，不需要更换介质和在不需要加压的情况下就可以实现-90℃~195℃、-70℃~220℃、-55℃~250℃、-25℃~300℃连续控温。只用同一种介质就可以快速响应控制温度，可以在-120℃~300℃范围内实现流体系统控温。单一压缩机制冷技术可以达到-150℃的温度，并且体积更小，更容易抬放。