无锡冠亚—品牌—大型生产高低温tcu控制器

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　TCU主要用于反应釜集中控温的，般是配套使用，在使用TCU反应釜的时候，定要注意清洗，要不然会影响TCU反应釜的高效运行。

　　TCU反应釜机械清洗：

　　TCU反应釜机械清洗的时候，采用高压清洗装置，使用高压水流通过喷头冲刷，将反应釜内壁及搅拌器表面上的坚硬垢物击碎，*剥离并清除掉。

　　TCU反应釜机械清洗高压清洗的原理为将水压缩高压，然后通过伸入釜内的清釜机器人上安装的喷嘴释放。压力能转变为水流的动能，通过这个能量对壁面污垢进行冲击实现清洗、清除的效果。

　　TCU反应釜机械清洗是单纯的物理清洗，所使用的介质为水，成本非常低，但是效率非常高，高压水清洗所用时间短，与手工清洗相比较，能节省大量人力、物力、财力，还不会对TCU反应釜造成损伤。

　　与原来手工清除相比，年下来能够节省大块的停釜清洗时间，若将这部分时间用于生产，将能额外产生可观的经济效益。同时，高压水不会对反应釜内壁造成任何损伤。目前在化工行业，高压水射流清洗已经逐步成为清洗方法的主流。

　　TCU反应釜化学清洗：

　　TCU反应釜在进行化学清洗的时候，需要知道反应釜设备内的垢样成分，好是取样分析。确定污垢成分后先做试验，选用清洗剂同时通过试验确定对设备金属不会造成腐蚀。然后通过现场架设临时循环装置将清洗液在设备内循环流动，洗去污垢。

　　在进行TCU反应釜清洗的时候，先用适量的水冲洗搅拌桨及釜内壁，放尽，将溶剂通过加压装置流冲刷反应釜。如未达到清洗效果，向反应釜中加入适量的溶剂升温搅拌回流达到清洗要求，然后将溶剂放出， 后用定量的溶剂冲洗反应釜内壁，放出。

　　TCU反应釜人工进釜手工清除：

　　TCU反应釜人工进釜手工清除成本是很低的，但是进釜之前需要数小时的通风换气，清除过程中还须随时监视釜内氧气浓度，有缺氧的危险；同时人工刮铲除了不能*清理之外，还会造成反应釜内壁的滑伤，这些滑痕客观上造成了残留物的进步附着。人进釜清理也会造成产品卫生上的问题。般来说，清理台釜所需时间约为半天天。

　　TCU反应釜清洗的三种方法各有利弊，机械清洗不会对设备产生腐蚀，对硬垢可以有效清洗，但是用时长、劳动强度大；化学清洗用工少，清洗时间短，清洗*，但是可能会造成设备被腐蚀；人工进釜手工清除成本低，但是危险性较大，不能*清理干净。因此化学清洗应用在污垢较软、薄的工况，机械清洗应用在污垢硬、厚的工况。

　　这三种TCU反应釜清洗的知识希望能帮助到大家更加高效安全的使用反应釜。

　TCU控温单元ZLF-200N是反应釜控温方面使用比较多的型号，对于需要购买的客户来说，了解其功能是非常必要去了解的课题。

　　TCU温度控制单元是在化工、制药等多种行业需要反应釜控制的时候并使用的，多台反应釜制冷加热控温系统简称TCU。TCU温度范围从-25℃200℃，其他温度范围需要定制宽（-50℃250℃）般是2～20台反应釜集中式控制，每台反应釜均可以立设定物料温度、夹套温度，实现台加热换热主机和多台载冷剂控制换热单元不同台反应釜目标温度。

　　TCU控温单元ZLF-200N更加控制，采用精准算法控制冷冻介质和加热介质进入反应釜流体阀门的导通角，精准控制进入反应釜夹套制冷加热流体的流量。TCU控温单元ZLF-200N从高温往低温降温时，和加热主机没有关系，只是把夹套重点额导热介质温度降低。

　　TCU控温单元ZLF-200N采用超高温柔性降温技术，TCU控温单元可以从高温250度降温通入冷却水过程中，不会有水蒸气产生，水温温升控制在40度以内，可以降低换热器结垢风险。

　　TCU控温单元ZLF-200N在配置上面标配为换热器为板式换热器，提高冷却及制冷速率，10寸彩色TFT触摸屏图形显示、USB数据导出接口、RS485通信接口、工控组态软件，可运用工厂现有的制冷系统、加热系统，降低投入成本。

　　TCU控温单元ZLF-200N是拥有非常宽的温度范围，无需更换液体介质（见导热介质运用），高精度、智能型温度控制，全密闭系统，延长导热液体寿命，性能*、。

　　另外，TCU控温单元ZLF-200N还可以配置多功能报警系统和安全功能，如果有需要定制防爆型的TCU，也可以TCU专业厂家——无锡冠亚，私人订制TCU。

　　高的生产稳定性和可重复性结果（提高生产产品的稳定性）

　　如果TCU控温单元ZLF-200N不能满足大家，另外还有ZLF-35N、ZLF-50N、ZLF-80N、ZLF-125N等系列型号也可供大家选择。

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